2025年12月、SCREENホールディングス株式会社（本社：京都府京都市、代表取締役社長：後藤 正人）は、米国ニューヨーク州の半導体研究開発機関「NY Creates」との間で、7,500万ドル規模の新たな戦略的パートナーシップを締結したと発表がありました
- SCREENが米国Albany NanoTech ComplexにR&D拠点を設立し、10年間にわたる研究開発協力を開始。
- 初期3年間で7,500万ドル（約110億円）以上の支出が見込まれており、最先端のクリーンルームとオフィススペースを活用。
- 日米の高性能半導体技術と人材開発のさらなる連携促進が期待される。
本提携は、ニューヨーク州のキャシー・ホークル知事によって12月16日に東京で正式発表され、NY Createsのデイブ・アンダーソン社長、SCREENホールディングスの後藤正人社長、SCREENアメリカ研究所のイアン・ブラウン社長が調印式に出席した。
SCREENは、NY Createsが建設中の最先端研究施設「NanoFab Reflection」内に約1,000平方メートルのクリーンルームスペースと、約500平方メートルのオフィススペースを確保。今後10年間にわたる共同研究では、ウェットプロセス、熱処理、先端パッケージング技術の開発などを中心に行われる予定だ。
Albany NanoTech Complexは、米国で最も先進的な非営利主導の半導体研究拠点とされ、ニューヨーク州の10億ドルの投資をもとに、産業界からさらに90億ドル以上の資金を呼び込んでいる。
ホークル知事は、「今回のSCREENとの提携は、ニューヨークが半導体イノベーションの世界的リーダーであることを再び示すもの」と語り、米国における半導体産業の国内回帰（リショア）戦略の一環として期待を寄せている。
また、NY Createsのアンダーソン社長は「SCREENとの連携は、日本との技術的・経済的なつながりを一層深め、次世代半導体技術の革新を加速させる」とコメント。Empire State Development（ニューヨーク州開発公社）もこの提携に深く関与し、円滑な連携実現を支援した。
NanoFab Reflectionは、31万平方フィート（約2.9万㎡）に及ぶ大規模研究施設で、2026年には世界初の公設型「High NA EUV（高開口数EUV）リソグラフィセンター」の機能も加わる予定。現在は標準NAのEUV装置が稼働中で、米国における先端半導体研究の中心拠点としての地位を確立しつつある。
このプロジェクトにより数百人規模のハイテク雇用が創出されると見込まれ、今後も数十億ドル規模の民間投資が見込まれている。
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